首页 · 科学研究 · 学术交流 · 正文
姓名职称 董红 会议时间 2025年7月11日上午
会议ID A8厚德楼201教室

321B

嘉宾简介:董红,南开大学电子信息与光学工程学院教授,博士生导师,从事半导体材料、器件研究,并开展ALD与XPS等材料表面分析仪器国产化和产业化工作。发表与合作发表了90多篇论文,获得了多个ALD和XPS的整机以及核心零部件的国家发明专利,半导体与高-k和金属的界面和表面研究。

报告简介:界面质量是影响电子器件性能的关键因素。X射线光电子能谱(XPS)是表面界面物理化学表征的常用手段,可以实现几个纳米以内的材料成分,价态,能带,元素扩散,界面偶极子等信息。在实验设计和分析过程中,容易引入误判,造成整个机制机理的错误归因。本报告将覆盖基本原理到分析技巧和注意事项,并现场分析数据为例协助电子器件研究。此外,TEM的制样,分析模式等注意事项也将汇报。

上一篇:学术报告|吴军:突破工业软件“卡脖子”技术攻坚路径与目标

下一篇:学术报告|杨卫东 徐志:国家粮食储备信息技术应用与需求